中国买不到最先进EUV机　ASML：晶片制造技术落后10至15年

荷兰晶片设备制造商艾司摩尔（ASML）执行长福克（Christophe Fouquet）表示，美国禁止极紫外光（EUV）曝光设备出口中国的禁令确实有效，导致中国晶片技术落后西方10至15年。

• AI晶片如何流入中国？　美商务部传要求Nvidia调查
• 事实查核｜中国自制光刻机大突破，可量产8纳米芯片？
• 【泽论四方】中国晶片工业为何会失败？

福克接受荷兰《鹿特丹商报》（NRC）专访指出，由于无法取得取先进的EUV设备，中芯国际与华为只能使用深紫外光（DUV）曝光设备，在成本效益上无法与晶片代工龙头台积电的制程技术相提并论，目前落后西方约10至15年，华府的禁令确实产生效果。

每个环节中国都有一定基础

不过，福克表示，即使ASML无法向中国供应最先进的EUV技术，但中国晶片业界仍在奋力研发，在每个环节都具备一定基础，持续自主发展，而不论中、美或其他国家，都视ASML为一块关键拼图。

全球约90%晶片由ASML的曝光设备生产，随著先进制程朝5纳米及以下进化，EUV已是未来曝光技术和先进制程的核心，现主要用于7纳米及以下的先进晶片制程，而ASML是唯一EUV设备供应商。

华为及合作夥伴已在积极开发极紫外线曝光技术，以建立自家的晶片制造设备和生态系统；有报道指出，虽然中国不太可能短期内打造出可生产5纳米晶片、类似「Twinscan NXT:2000i」的DUV设备，但复制出不太先进的东西可容易得多。

对于近月屡传美国要求荷兰禁止ASML为中国客户提供维修服务，福克表示，ASML希望可以管理在中国的机器，若由当地客户自行维修设备以维持晶片工厂运作，恐更容易出现资讯外泄，希望华府能明白个中道理。

编辑：李向阳（台北）　网编：陈家杰